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平面抛光机的抛光运动和轨迹

来源:www.lerzo.com  时间:2018-01-02  点击数:

  在平面抛光机加工中,选择合理的运动方式以及抛光轨迹是极为重要的一步,抛光运动和抛光轨迹将会直接影响抛光的精度以及生产的效率。所以,平面抛光机在抛光加工运动中,抛光运动和轨迹应满足以下几点。

  1、在加工工件时,平面抛光机整个抛光运动自始至终都应该力求平稳。

  2、抛光运动应该保证工件能够均匀地接触抛光抛光盘的全部表面。

  3、所选用的抛光运动应使运动轨迹不断有规律地改变方向,尽量避免过早地出现重复。

  4、在平面抛光机的抛光运动中,研具与工件之间处于浮动的状态,而不应是强制的限位状态。

  5、抛光运动应保证工件受到均匀抛光即被研工件表面上的每一点所运动的路程应尽量相等。

  为了保证平面抛光机平稳,安装抛光机的地方要平坦,而且坚固,抛光绝对不能安装在木质地板上。另外,在抛光过程中要使用抛光液,抛光液可以提高抛光效果。

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