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抛光轨迹对抛光性能的影响

来源:www.lerzo.com  时间:2015-11-10  点击数:

  抛光精度,即抛光性能,是平面抛光机厂家和客户都重点关注的焦点。那么影响平面抛光机抛光性能的因素是什么呢?抛光轨迹是影响抛光性能根本的因素。

  平面抛光机的抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动,有定偏心研磨轨迹、不定偏心研磨轨迹、直线式研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹,行星式研磨轨迹等等。

  定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差,越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件,其中高精密研磨抛光机就是这种。

  不定偏心式研磨轨迹,其均匀性明显好于定偏心式轨迹,有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。

  直线式研磨使用的不是抛光盘,而是具有柔性的砂带,工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光机自修整机构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。

  摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势,是工件加工面中心处有凹陷的现象。

  行星式平面研磨运动轨迹最常见用于双面研磨机,当改变研磨盘转速和太阳转速之比时,工作效率及材料去除率会发生变化。

  以上就是平面抛光机和抛光轨迹分类及他们对抛光效果的影响,不同的工件适合使用不同的抛光轨迹,希望这些内容能够帮助你做好抛光工作。

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